鍍膜裝置就是在高真空狀態下透過高溫將金屬鋁熔化蒸發╃☁│，使鋁的蒸汽沉澱堆積到塑膠薄膜表面上╃☁│，從而使塑膠薄膜表面有金屬光澤的裝置│☁☁☁。真空鍍膜技術作為一種產生特定膜層的技術╃☁│，在現實生產生活中有著很廣的應用│☁☁☁。
　　鍍膜裝置的鍍膜方式✘╃☁：離子鍍╃☁│，蒸發鍍╃☁│，濺射鍍
　　1☁│☁│•、優點✘╃☁： 成膜速度快0.1- 50um/min╃☁│，裝置比較簡單╃☁│，操作容易；製得薄膜純度高；薄膜生長機理較簡單│☁☁☁。
　　2☁│☁│•、缺點✘╃☁：薄膜附著力較小╃☁│，結晶不夠完善╃☁│，工藝重複性不夠好│☁☁☁。