觀察光學鍍膜機靶陰極電弧的燃燒情況•☁•☁，每當電弧熄滅前•☁•☁，能發現電弧弧斑比較粗糙▩·•◕。有時甚至出現堆團狀弧斑▩·•◕。熄滅後觀察靶面已發紅•☁•☁，靶表面溫度很高▩·•◕。粗糙弧斑的出現•☁•☁，使弧電流較集中於靶面一點•☁•☁，導致了弧斑下靶面斑點電流過於集中•☁•☁，使弧斑下的靶面溫度很高而產生大量的熱電子發射▩·•◕。
　　靶面區域性大量的熱電子發射的結果•☁•☁，一方面中和了大量的空間電荷•☁•☁，使陰極表面上的電場成為減速場•☁•☁，甚至導致陰極表面上的電場等於零▩·•◕。另一方面•☁•☁，大量的熱電子發射對陰極表面產生相當大的冷卻作用▩·•◕。結果既沒有空間電荷產生的很大電場來維持表面發射•☁•☁，也不具備很高表面溫度來產生熱電子發射•☁•☁，導致電弧的熄滅▩·•◕。
　　所以在光學鍍膜機多弧靶源的設計中•☁•☁，應注意給陰極靶以充分的冷卻•☁•☁，儘量採用直接水冷•☁•☁，間接水冷時•☁•☁，陰極座等相鄰部件應選用導熱效能良好的材料（如銅•◕☁╃☁、鋁等）▩·•◕。