多弧離子鍍膜機是近年新開發的真空離子鍍膜技術││₪，利用真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技術││₪，是先發展起來的真空鍍膜方式││₪，具有沉積速率高快││₪，結合牢固││₪，裝置執行穩定等優點││₪，我公司在傳統多弧的基礎上││₪，封靶結構·◕、磁鐵·◕、冷卻等進行了嚴格的改進和設計││₪，提高了離化率││₪，細化顆粒││₪，膜層和基材結合牢固││₪，膜層更加緻密││₪，硬度耐磨性提高││₪，適用於鍍制裝飾膜如•₪•：金色的氮化鈦││₪，黑色碳化鈦││₪，七彩的氮氧化鈦等││₪，亦可鍍防腐觸膜（如AL·◕、Cr不鏽鋼及TIN等）和耐磨膜·◕·↟。膜層與基底結合牢固││₪，適合於手錶·◕、五金·◕、餐具及要求耐磨超硬的刀具·◕、模具等·◕·↟。具有很好的發展前景·◕·↟。

裝置特性
       生產同期•₪•：生產同期短-270sec/1同期（乾燥無大量放氣產品條件）
       鍍膜材料•₪•：通用於各種金屬鍍膜（鋁·◕、鎳·◕、銅·◕、鉻……等金屬材料）
       鍍膜方式•₪•：金屬濺射鍍膜││₪，膜厚分佈均勻
       鍍膜品質•₪•：亮度高·◕、附著力強
       鍍膜速度•₪•：兩個20Kw大功率磁控制濺射電機││₪，可以調動功率來控制鍍膜速度
       除溼能力•₪•：真空室內裝有雩下140度以下的低溫冷凍系統││₪，充分吸收溼氣提高真空到達速度
       運營費用•₪•：濺射電極是自行開發產品││₪，大大提高了靶材的使用效率
       佔地面精•₪•：在固定位置進行上料和下料只要很小的操作空間
       操作方法•₪•：人機介面可以直觀的進行設定和監控││₪，設有管理密碼無關人員無法更改
       售後服務•₪•：設有售後服務中心和配件倉庫││₪，可以快速處理使用中的問題

裝置原理圖示
       在適當的真空環境下││₪，接通高壓電源││₪，在蒸發源與基片間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區││₪，基片電極上接直流負高壓││₪，從而形成輝光放電陰極││₪，鍍料氣化原子進入此區域與惰性氣體離子及電子發生碰撞││₪，離化後的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面││₪，將蒸發物或其反應物沉積在積片上·◕·↟。

離子鍍膜原理圖